硅片清洗技术手册(材料科学和工艺技术)
1一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4：H2O2=5：1或4：1的酸性液清洗。
2常用方法： A工艺：SPM+SC1+SC2 B工艺：SPM+DHF+SC1+SC2 C工艺：DHF+SC1+SC2 RCA工艺：SC1+SC2 SPM：SPM HF工艺：SPM+HF 硅片表面有油脂松香蜡等有机物，可用有机溶剂清洗。
3硅片的制作通常包括以下主要工艺流程： 单晶硅生长：通过化学气相沉积（CVD）或单晶硅浮区法等方法，在高温下将硅材料以单晶形式生长出来。这一步骤产生的单晶硅块被称为硅锭。 硅锭切割：将硅锭使用切割机械或切割工艺切割成薄而平坦的圆盘形硅片。
4直拉法单晶硅工艺流程包括原料准备切割硅锭清洗切片晶体生长加工单晶硅棒清洗单晶硅棒和检验单晶硅等步骤。这个工艺需要高纯度的硅锭和一系列复杂的设备和工艺。单晶硅是由单一籽晶生长的单晶体硅材料，它具有晶格完整缺陷和杂质很少等特点。
粉体SEM表征,是用铜片还是导电橡胶
可以肯定是铜片。但铜片较硬，对非规则地方无法接触良好。
扫描电子显微镜（SEM）一般10～20万元，能观察到0.001微米，看物体表面的形貌。【点击了解产品详情】扫描电子显微镜（SEM）是利用二次电子和背散射电子信号，通过真空系统电子束系统和成像系统获取被测样品本身的各种物理化学性质的信息，如形貌组成晶体结构电子结构和内部电场或磁场等的一种分析仪器。
质量好的排插一般使用整体式铜片，铜质较好，比较厚。因为这样的材质才能使导电性能更好，不易发生变形导致接触不良，或造成插孔部位烧蚀产生电火花，影响使用安全。
普通的双面胶一般是不导电的，但会受温度及老化作用的影响。电子器材店有专业的绝缘双面胶，你可以买那个用放心。用万用表测很简单：把万用表调到电流档选最大档位，用万用表笔接触双面胶两头，看指针是否摆动。摆动说明导电，不动说明绝缘。
求助扫描电镜SEM送样前处理
导电胶粘到SEM试样铜台上，硅片粘到导电胶上。样品用乙醇分散一下，滴到硅片上，待乙醇挥发后就可以拿去测了。
用扫描电镜对样品或试件进行观察时样品处理如下：样品要尽可能干燥，含有水分或其他易挥发物的试样应先烘干除去；若样品中含有水份，水分挥发会造成仓内真空度急剧下降，导致图像漂移，有白色条纹，甚至会影响灯丝寿命。
以上四个步骤，根据所使用的SEM成像的真空模式，可以有所省略。如果用ESEM，取样后可直接放入样品室，在一定“环境真空”下进行观察；如果采用LV模式，直到干燥，可以免喷金；高真空模式，必须做到喷金等样品导电处理。
扫描电镜前要用无水乙醇。扫面电镜时，断口间隙处会存在污染物，要用无水乙醇丙酮或超声波清洗法清理干净。污染物会掩盖图像细节，引起试样荷电及图像质量变坏。扫描电镜（SEM）是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。
houhuan666（站内联系TA）氧化铅应该是导电的，导电的物质可以直接做电镜。若是固体粘在导电胶上，若是粉末铺在导电胶上就可以了。要是不导电的物质，需要提前喷金。在制样的时候一定要注意不要损坏样品，以免破坏样品的表面形貌。
扫描电镜（SEM）是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。如果您有需要，可以关注欧波同材料分析研究中心。每个部门各司其职，仪器技术部负责测试前样品制样处理，旨在制样方法研究，为用户提供更高效准确的制样方法。
纳米材料在测SEM时要怎么分散的更好些
1将纳米粉体用酒精搅拌分散。然后将其都倒入超声波机器里进行分散。超声波机器里加入很多的纯净水。超声一段时间后，用吸液管往超声波机器里吸取少量液体，滴到事先准备好的TEM用的小金片上，这种方法叫做离子捡捞法。
2固体样品可以直接看SEM，不过粉体一定要非常少，用个镊子撒一点点上去，然后用吹掉多余的部分。
3具体看看你的样品有什么特征了，要能很好的分散在溶剂中，如果太黏，制样的效果不好；还有就是如果忖度太低，需要染色，这样效果要好点。
