直流磁控溅射镀膜有哪些特点有利于哪些薄膜材料的
1薄膜质量好：磁控溅射能够制备出均匀且连续性好的薄膜，这对于很多应用来说是非常重要的。材料利用率高：这种方法相比传统的溅射技术，可以更充分地利用目标材料，减少浪费。
2在磁控溅射镀膜技术中，溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的，其能量较高，往往比蒸发原子高出1～2个数量级，因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。
3磁控溅射是真空环境中镀膜，牢固性，致密性和均匀性都是很完美的。磁控溅射还可以镀光学膜。电镀之能镀金属吧。一个是化学过程，一个是物理过程。磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。
【知识】扫描电镜(SEM)知识大全
扫描电镜（SEM）是什么 扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，SEM）于1965年左右发明，其利用二次电子背散射电子及特征X射线等信号来观察分析样品表面的形态特征，是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察方法。
扫描电子显微镜（SEM）的基本结构及原理 扫描电镜基本上是由电子光学系统信号接收处理显示系统供电系统真空系统等四部分组成。图13-2-1是它的前两部分结构原理方框图。
电子光学系统：微观世界的造像大师SEM的电子光学系统负责产生极其细窄的电子束，通过精确扫描样品表面，捕捉每一个微小细节。
2020-02-18小刘科研笔记之氩离子精密抛光(可用于电镜制样)
氩离子精密抛光刻蚀镀膜仪同时配备金和铂两个靶材，可根据实际镀膜需求选择合适的靶材进行镀膜或改善扫描电镜样品导电性。氩离子精密抛光刻蚀镀膜仪同时配备了平面和截面样品抛光用的样品台，以满足不同样品的抛光需求。
聚焦离子束扫描电镜双束系统（FIB-SEM）是在SEM的基础上增加了聚焦离子束镜筒的双束系统，同时具备微纳加工和成像的功能，广泛应用于科学研究和半导体芯片研发等多个领域。本文记录一下FIB-SEM在材料研究中的应用。
氧化铝抛光的抛光速率快二氧化硅抛光液易清洁。（2）氧化铝抛光液良好的微粒形状，纯度高磨削力强，表面粗糙度5-15nm。（3）二氧化硅抛光液表面粗糙度低，而且抛光后易清洗，适用于二次抛光解决脏污。
材料的表征方法按照实验数据类型可以分为图像类和谱图类两类，其中图像类有SEMFIB-SEMAFM和TEM等；谱图类有XPSXRDRamanFT-IRUV-visNMRXAS以及配合电镜使用的EELS和EDS等。
大家陶瓷样品拍sem用什么腐蚀方式
抛光后的SiC样品，置于沸腾的Murakami溶液中进行腐蚀。
我们用的腐蚀方法有两个，一个是热腐蚀，一个是化学腐蚀，所用的腐蚀液就是酸类，硫酸硝酸等，差别就在腐蚀时间上，这个是经验的积累，没有确定的时间规定。腐蚀时间越长，腐蚀程度越大。希望对你有用。
导电不好的材料表面会模糊不清。喷金之后，表面导电性改善，分辨率能达到几十纳米左右。所以金属样品不用喷金，而陶瓷纳米颗粒样品最好在表面镀层铂金。
对于抛光后的金属样品，扫描电镜结合EBSD可进一步对晶体结构织构取向差等进行解析。 0扫描电镜（SEM）分析实例 二次电子像分析 下图为经抛光腐蚀之后金相样品的二次电子像，可看出SEM图像的分辨率及立体感均远好于光学金相照片。
