硅片清洗技术手册(材料科学和工艺技术)
1专业基础课程：工程制图与CAD半导体硅材料基础无机化学电工电子技术电气控制与PLC新能源技术化工单元基础数据统计分析。
2硅材料工程师是从事硅材料的制备加工成型材料结构等领域的技术开发和改造工艺和设备设计及经营管理等方面工作的高级技术应用性专门人才。
3芯片的制作流程大体分为以下几个步骤： 单晶片的原材料：芯片制作的原材料主要是硅片（Silicon Wafer），它是一种高纯度硅的圆形薄片。
4然后在硅片表面蒸发铝层并用光刻技术刻蚀成互连图形，使元件按需要互连成完整电路，制成半导体单片集成电路。随着单片集成电路从小中规模发展到大规模超大规模集成电路，平面工艺技术也随之得到发展。
拍SEM照片,材料喷过金的表面如何去除
如果方便的情况下，可以先将粘在3M双面胶表面的东西拿掉，如果不方便，也就没有关系了，可以直接滴上华润多功能去胶剂。记得可以在四周都滴上，这样可以更快速的从边上浸入。10秒后，使用刮板从边上开始铲双面胶。
金属表面油污清洗有以下方法：除油浸泡清洗法 有机溶剂浸泡；化学介质浸泡 。
一）碱液脱脂法 这种方法主要借助于碱的化学作用（皂化作用）来清除金属表面的油脂和轻微锈蚀，使被涂表面净化，这种方法常用于清除钢铁镍铜等黑色金属以及不溶于碱液的有色金属。
需要溅射的样品 非导电材料 通常我们需要溅射喷金的非导电材料，由于它们的材料本身的非导电性，其表面带有电子陷阱，这种表面的电荷的聚集，容易造成样品表面的放电现象，是严重影响到样品的图像质量。
废料碳化硅怎么除碳
1使用如同硫酸厂沸腾灼烧硫铁矿的方式。加热后吹入高速空气，把加热的碳化硅颗粒吹起沸腾，碳化硅是耐热材料，控制好温度，除碳很简单。
2很简单。使用如同硫酸厂沸腾灼烧硫铁矿的方式。加热后吹入高速空气，把加热的碳化硅颗粒吹起沸腾，碳化硅是耐热材料，控制好温度，除碳很简单。当然需要高纯度的话吹入氧气更好，但是应该没有这个必要，因为没人会无视成本吧。
3加热氧化法 通过对绿碳化硅微粉进行高温煅烧，使绿碳化硅微粉中的游离碳及石墨与空气中的氧气反应，以二氧化碳或者一氧化碳的形式脱离碳化硅，从而实现了除碳的目的。
...氧含量决定什么!它们偏高,偏低有什么影响!如何改变这些参数_百度...
1水样的化学需氧量反映了水中受还原性物质污染的程度。该指标也作为有机物相对含量的综合指标之一。
2氧气过多会中毒。氧是需氧型生物维持生命不可缺少的物质，但超过一定压力和时间的氧气吸入，会对机体起有害作用。氧中毒是指机体吸入高于一定压力的氧一定时间后，某些系统或器官的功能与结构发生病理性变化而表现的病症。
3废水废水处理厂出水和受污染的水中，能被强氧化剂氧化的物质（一般为有机物）的氧当量。它反映了水中受还原性物质污染的程度。该指标也作为有机物相对含量的综合指标之一。
2020-02-08-2小刘科研笔记之FIB-SEM双束系统在材料研究中的应用
聚焦离子束扫描电镜双束系统（FIB-SEM）是在SEM的基础上增加了聚焦离子束镜筒的双束系统，同时具备微纳加工和成像的功能，广泛应用于科学研究和半导体芯片研发等多个领域。本文记录一下FIB-SEM在材料研究中的应用。
FIB-SEM FIB-SEM是在SEM的基础上增加了聚焦离子束镜筒的双束系统，同时具备微纳加工和成像的功能，在材料的表征分析中具有重要的作用。
世纪90年代，FIB开始广泛应用于半导体微纳科研生命健康和地球科学等领域，如1985年Micrion的首次FIB系统交付，1988年FIB-SEM双束系统的问世，标志着技术的全面开花。
例如，CT和X 射线显微镜可以无损探测，但分辨率相对较低，因此，初看材料时，就可以利用二者先观看形貌特征。扫描电镜具有更高分辨率，例如蔡司以扫描电镜为基础，推出 FIB-SEM 产品，可以实现高分辨率（3nm）的 3D 成像。
如何清洗硅片
酸碱清洗：利用强酸或强碱溶液与硅片表面沾污物发生化学反应，将其转化为可溶性的盐类，再通过冲洗去除。这种方法对去除氧化物金属等沾污物效果较好。
硅片清洗有以下三种方法，具体如下：①刷洗或擦洗：可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。
机械清洗：使用超声波清洗机或喷淋清洗机等设备，将硅片表面的粉尘杂质等物理污染物清除掉。 化学清洗：使用化学试剂，如氢氟酸硝酸等，在一定的温度和浓度下对硅片表面进行化学反应，以去除表面的氧化层和杂质。
一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4：H2O2=5：1或4：1的酸性液清洗。
去除硅片表面的有机沾污，因为有机物会遮盖部分硅片表面，从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除；然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷阱”，也会引入外延缺陷；最后再去除颗粒金属等沾污，同时使硅片表面钝化。
用酒精棉擦拭后，洗耳球吹干即可。严谨一些的话可以置于酒精溶液中超声清洗，效果差不多。硅片制备扫描电镜样品大多都是纳米颗粒溶液分散后滴到硅片表面，烘干。
